Cible de chrome
Cible de chrome, cible de Cr, cible de pulvérisation de chrome
Pureté : 99,5 %-99.99 %
Cible rectangulaire, cible ronde, cible rotative
Procédé de formage : pressage isostatique à chaud (HIP)
Taille conventionnelle : ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm etc.
Application : revêtement décoratif, revêtement d'outils, revêtement d'écran plat, industrie solaire à couche mince, industrie des écrans plats, industrie du verre à économie d'énergie, industrie du revêtement optique (comme le revêtement de rétroviseur d'automobile), etc.
Présentation du produit
spécification
Pureté : 99,5 % ~ 99,95 % ;
Procédé de formage : pressage isostatique à chaud (HIP) ;
Taille conventionnelle : ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm, etc.
Application : revêtement décoratif, revêtement d'outils, revêtement d'écran plat, industrie solaire à couche mince, industrie d'affichage à écran plat, industrie du verre à économie d'énergie, industrie du revêtement optique (comme le revêtement de rétroviseur d'automobile), etc.
Chrome | Performances du produit | ||
Pureté | 99.5 | 99.95 | |
Densité g/cm3 | Supérieur ou égal à 7,12 | Supérieur ou égal à 7,12 | |
Taille des grains/μm | Inférieur ou égal à 100 | Inférieur ou égal à 100 | |
Teneur totale en impuretés métalliques/ppm | Inférieur ou égal à 5000 | Inférieur ou égal à 500 | |
Conductivité thermique/W/mK | 60 | 100 | |
Coefficient de dilatation thermique/1/K | 8×10-6 | 8×10-6 | |
Taille/mm | Planaire | Inférieur ou égal à 1600×500 | Inférieur ou égal à 1600×500 |
Tournant | Formage intégral par HIP | Formage intégral par HIP | |
2N5 (oligo-éléments)PPM supérieur ou égal à 7,12 g/cm3
Composition | Fe | Al | Si | C | S | O | N |
Standard | Inférieur ou égal à 1500 | Inférieur ou égal à 1200 | Inférieur ou égal à 1500 | Inférieur ou égal à 200 | Inférieur ou égal à 50 | Inférieur ou égal à 1400 | Inférieur ou égal à 300 |
Valeurs de test | 980 | 300 | 600 | 62 | 50 | 1200 | 200 |
2N8 (oligo-éléments)PPM supérieur ou égal à 7,12 g/cm3
Composition | Fe | Al | Si | C | S | O | N |
Standard | Inférieur ou égal à 800 | Inférieur ou égal à 300 | Inférieur ou égal à 400 | Inférieur ou égal à 200 | Inférieur ou égal à 50 | Inférieur ou égal à 1000 | Inférieur ou égal à 100 |
Valeurs de test | 740 | 78 | 92 | 84 | 50 | 340 | 30 |
3N (oligo-éléments)PPM supérieur ou égal à 7,12 g/cm3
Composition | Fe | Al | Si | C | S | O | N |
Standard | Inférieur ou égal à 500 | Inférieur ou égal à 100 | Inférieur ou égal à 150 | Inférieur ou égal à 150 | Inférieur ou égal à 30 | Inférieur ou égal à 500 | Inférieur ou égal à 100 |
Valeurs de test | 290 | 47 | 80 | 90 | 28 | 450 | 50 |
3N5 (oligo-éléments)PPM supérieur ou égal à 7,12 g/cm3
Composition | Fe | Al | Si | Cu | Ni | C | S | O | N |
Standard | Inférieur ou égal à 100 | Inférieur ou égal à 50 | Inférieur ou égal à 50 | Inférieur ou égal à 10 | Inférieur ou égal à 50 | Inférieur ou égal à 50 | Inférieur ou égal à 30 | Inférieur ou égal à 150 | Inférieur ou égal à 80 |
Valeurs de test | 50 | 45 | 40 | 7 | 10 | 24 | 27 | 137 | 30 |
Particules de chrome de haute pureté : les tailles de particules couramment utilisées sont : 1-3mm, 3-5mm, 40 mesh, -20-300 mesh, 40#, 60#, 80#, 200#, etc. pour le revêtement par évaporation, haute pureté, bon effet d'évaporation.
Cas d'application
Les cibles de pulvérisation de chrome sont couramment utilisées dans les procédés de dépôt de couches minces, tels que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et la pulvérisation magnétron. Ces procédés sont utilisés dans diverses industries, notamment les semi-conducteurs, l'électronique, l'aérospatiale et l'automobile, pour déposer de fines couches de matériaux sur des substrats à diverses fins, telles que l'amélioration des propriétés du matériau ou la création d'une finition de surface spécifique.
Ils présentent d'excellentes propriétés d'adhérence, des points de fusion élevés et une stabilité chimique, ce qui les rend idéaux pour une utilisation dans ces procédés. Ils sont utilisés pour déposer de fines couches de chrome sur divers substrats, tels que le verre, le métal et la céramique, afin de créer divers revêtements fonctionnels et décoratifs.
Les cibles en chrome-chrome sont utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs, où elles sont utilisées pour créer des couches minces de chrome à diverses fins, telles que les interconnexions d'électrodes, les couches barrières et les contacts ohmiques. Ces couches sont des composants essentiels des dispositifs semi-conducteurs, et leurs propriétés peuvent grandement affecter les performances et la fiabilité des dispositifs.
Dans les industries aérospatiale et automobile, ils sont utilisés pour créer des revêtements protecteurs sur les composants des moteurs, tels que les aubes de turbine et les systèmes d'échappement, afin d'améliorer leur durabilité et leur résistance aux environnements à haute température.
Dans l'industrie électronique, les cibles de pulvérisation Cr sont utilisées pour déposer des films minces sur divers substrats, tels que des écrans et des écrans tactiles, afin d'améliorer leurs performances et leur durabilité.
étiquette à chaud:
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