Anode en titane Ir/Ta pour feuille de cuivre électrodéposée

Qu'est-ce qu'une anode en titane Ir/Ta pour feuille de cuivre électrodéposée ?

Une anode en titane Ir/Ta est un type d'électrode utilisée dans les applications électrochimiques qui nécessitent une résistance élevée à la corrosion et à l'oxydation. L'anode est en titane et recouverte d'une couche d'iridium (Ir) et de tantale (Ta) à l'aide d'un procédé de revêtement spécialisé appelé dépôt par pulvérisation thermique.

Ir/Taanode en titaneL'anode en cuivre électrodéposé est un type d'électrode utilisée dans le processus de galvanoplastie pour produire des feuilles de cuivre de haute qualité utilisées dans les circuits imprimés (PCB). L'anode est en titane, un matériau idéal pour les applications de galvanoplastie en raison de sa résistance élevée à la corrosion, de sa faible réactivité et de son excellente conductivité.

Lors du processus de galvanoplastie, l'anode en titane est immergée dans une solution électrolytique contenant des ions de cuivre. Lorsqu'un courant est appliqué à l'anode, les ions de cuivre se déposent sur la cathode (une feuille de cuivre plate) pour former une fine couche de feuille de cuivre. L'anode en titane est conçue pour résister aux conditions difficiles du processus de galvanoplastie, notamment les températures élevées, les produits chimiques corrosifs et les courants électriques.

Fabricant

Baoji City Changsheng Titanium Co., Ltd. is the earliest professional anode company to enter the Electrodeposited copper foil industry in China. For more than ten years, the coating technology with independent intellectual property rights has been researched and developed and has reached the international advanced level. The prepared electrode has the characteristics of good conductivity, low oxygen evolution potential, fine coating oxide crystal grains (up to nanometer level), long service life (operating life>40000KA h/m2), et d'autres caractéristiques.

Anode en titane pour feuille de cuivre électrodéposée

Conditions de travail : H2SO4 Inférieur ou égal à 15 % Pb ＜ 50 ppm F- ＜ 10 ppm

Cl-<60ppm gel content <10ppm

Température : T ＜ 60 degrés

Densité de courant : I<7000A / m2

Taille de l'anode : 7 * 280 * 1375 (ensemble de 16 pièces)

Durée de vie requise : 40 000 KAH (une durée de vie continue de 8 mois correspond à 5 760 h)

Test de performance électrochimique et de durée de vie (norme de référence HG/T2471-2007 Q/CLTN-2012)

Nom Perte de poids intensifiée mg Potentiel d'évolution de l'oxygène V Condition de test Densité de courant A / m2 Durée de vie h

Tantale iridium à base de titane Inférieur ou égal à 10 ＜ 1.43 15% H2SO4 40000 ＞ 1440

Contexte et introduction de l'utilisation du produit

La feuille de cuivre électrodéposée est une feuille de cuivre produite par dépôt électrolytique de sulfate de cuivre. En raison des exigences strictes de qualité et de performance du produit, la stabilité des conditions d'électrodéposition en production est stricte et l'anode doit supporter un courant important. L'électrode en titane revêtue de métal précieux a un pas polaire stable et une consommation d'énergie plus faible. Dans le même temps, l'anode en titane présente l'avantage d'une utilisation répétée après le revêtement. Une fois la durée de vie de l'anode en titane atteinte, elle peut être réutilisée par revêtement. De cette façon, à la fois en termes de consommation d'énergie et de coût de l'anode seront considérablement économisés. En raison des avantages ci-dessus, les anodes en titane revêtues sont largement utilisées dans le processus de fabrication de feuilles de cuivre électrodéposées, de la formation de la feuille de cuivre à l'extrémité avant au post-traitement de la feuille de cuivre.

Dans des conditions de densité de courant<8000A / m2, the working life of the anode is generally about 8-10 months.

Anodes en titane pour feuilles de cuivre électrodéposées

Les feuilles de cuivre électrodéposées sont utilisées dans la production de feuilles de cuivre de haute qualité utilisées dans diverses applications électroniques, notamment les circuits imprimés, les appareils électroniques et les circuits intégrés. Le processus de galvanoplastie utilisant des anodes en titane permet de produire des feuilles de cuivre d'épaisseur constante, d'uniformité et d'excellentes propriétés d'adhérence, ce qui les rend adaptées au traitement à grande vitesse et à l'impression en lignes fines.

En plus de leur résistance élevée à la corrosion et de leur conductivité, les anodes en titane revêtues d'iridium pour feuilles de cuivre électrodéposées offrent plusieurs autres avantages par rapport aux matériaux d'anode traditionnels tels que le graphite et le plomb. Les anodes en titane sont plus durables et ont une durée de vie plus longue, ce qui entraîne des coûts de maintenance inférieurs et un impact environnemental réduit. Elles sont également plus efficaces en termes de densité de courant, ce qui se traduit par des vitesses de placage plus rapides et une productivité améliorée.

Dans l’ensemble, les feuilles de cuivre électrodéposées sont un composant essentiel dans la production de feuilles de cuivre de haute qualité utilisées dans diverses applications électroniques, et leurs propriétés uniques en font un choix idéal pour le processus de galvanoplastie.

étiquette à chaud: Anode en titane Ir/Ta